GIẢI PHÁP XỬ LÝ NƯỚC CẤP CHO DOANH NGHIỆP SẢN XUẤT ĐIỆN TỬ

Giải pháp xử lý nước cấp cho doanh nghiệp sản xuất điện tử, đảm bảo tiêu chuẩn đầu ra và tiết kiệm điện năng tiêu thụ. Giải pháp sẽ được điều chỉnh linh hoạt dựa trên nhu cầu thực tế của từng doanh nghiệp.

1.         Tiêu chuẩn nước cấp cho hoạt động sản xuất điện tử
Nước cấp cho hoạt động sản xuất điện tử thường được kiểm soát nghiêm ngặt nhằm đảm bảo chất lượng sản phẩm. Nước cấp cho cho hoạt động sản xuất của các nhà máy linh kiện điện tử phải là nước siêu tinh khiết (UPW), chỉ có duy nhất 2 thành phần đó là oxy và hidro.
Tại các nhà máy sản xuất điện tử, nước siêu tinh khiết thường được sử dụng trong các công đoạn sản xuất điện tử sau:
  • Sử dụng cho việc rửa các thành phần chất bán dẫn trong sản xuất
  • Nước sử dụng để làm sạch và hoạt đông khắc, quá trình oxy hóa bề mặt silicon, chuẩn bị mạ…
  • Các ứng dụng khác trong phát triển và chế tạo các thiết bị bán dẫn, thiết bị màng mỏng, diot phát sáng, hình ảnh, mạch in, các thiết bị bộ nhớ, thiết bị hút chân không, hoặc các thiết bị điện
Tiêu chuẩn nước cấp áp dụng cho hoạt động sản xuất điện tử dựa trên kích thước thiết bị sản xuất. Cụ thể:
Chỉ tiêu Loại E1 Loại E 1.1 Loại E 1.2 Loại E2 Loại E3 Loại E4
Độ rộng của thiết bị điện tử sản xuất (micron) 1,0-0,5 0,35 -0,25 0,18 -0,09 5,0 -1,0 >5,0 -
Điện trở ( 250C) ( trực tuyến) 18,1 18,2 18,2 16,5 12 0,5
TOC (mg/l)( online cho < 10 ppb) 5 2 1 50 300 1000
Oxy hòa tan (mg/l) 25 10 3 - - -
Phần còn lại trên ống sau khi bay hơi (mg/l) 11 0,5 0,1 - - -
Vi khuẩn trong CFU/ 100 ml 5 3 1 10 50 100
Silic tổng (mg/l) 5 3 1 10 50 1000
Silic hòa tan (mg/l) 3 1 0,5 - - -
Amoni 0,1 0,1 0,05 - - -
Clorua 0,1 0,05 0,02 1 10 1000
Florua 0,1 0,05 0,03 - - -
Nitrat 0,1 0,05 0,02 1 5 500
Phot phat 0,1 0,05 0,02 1 5 500
Sunfat 0,1 0,05 0,02 1 5 500
Canxi 0,05 0,02 0,002 - - -
Magiê 0,05 0,02 0,002 - - -
Mangan 0,05 0,02 0,002 - - -
Niken 0,05 0,02 0,002 1 2 500
Kaili 0,05 0,02 0,005 2 5 500
Natri 0,05 0,02 0,005 1 5 1000
(*) Khuyến nghị các loại chất lượng nước áp dụng như sau:
Loại E1: Nước này được sử dụng để sản xuất các thiết bị có chiều rộng từ 0.5 đến 1 mm
Loại E 1.1: Sử dụng để sản xuất các thiết bị có chiều rộng từ 0.25 đến 0.35 mm
Loại E1.2: Được sử dụng trong sản xuất các thiết bị có độ rộng từ 0.09 – 0.18 mm. Đây là nước dành cho những ứng dụng quan trọng nhất
Loại E2: Dùng để sản xuất thiết bị có kích thước từ 1 -5mm
Loại E3: Dùng để sản xuất thiết bị có kích thước lớn hơn 5mm. Loại này có thể được sử dụng để sản xuất linh kiện lớn hơn và một số thành phần nhỏ không bị ảnh hưởng bởi một lượng nhỏ tạp chất
Loại E4: Thường được sử dụng cho các giải pháp mạ và cho các ứng dụng khác mà sử dụng chất lượng nước thấp hơn
2.         Nguồn nước cấp cho hoạt động sản xuất điện tử:
Hiện nay tại Việt Nam, có 02 nguồn nước chính cung cấp cho hoạt động sản xuất điện tử là nước ngầm hoặc nước từ các nhà máy cấp nước sạch trên địa bàn.
Tuy nhiên chất lượng nguồn nước ngầm hiện nay không đảm bảo và có dấu hiệu bị ô nhiễm, chứa nhiều kim loại nặng, vi sinh vật… do hoạt động sản xuất và sinh hoạt của con người. Do vậy, các doanh nghiệp sản xuất điện tử bắt buộc phải xử lý nước cấp đầu vào.
3.         Giải pháp xử lý nước cấp sản xuất điện tử do NES cung cấp:
Ưu điểm về mặt công nghệ:
  • Nước cô đặc từ hệ thống lọc có thể được tái sử dụng, không có rủi ro oxy hóa cho giai đoạn lọc RO từ khí oxy hóa
  • Vận hành tiêu thụ ít điện năng, chỉ ~ 0.06~0.12 KWH/m3.
  • Giải pháp điều chỉnh linh hoạt tùy vào tiêu chuẩn nước cần đạt
4.         Quy trình xử lý nước cấp đạt tiêu chuẩn cho hoạt động sản xuất:
4.1.      Quy trình 1 (Nước sau xử lý đạt chuẩn E1)

4.2.      Quy trình 2 (Nước sau xử lý đạt chuẩn E2)

DANH MỤC CHÍNH